Bersinergi dengan Universitas Teknologi dan Ilmu Pengetahuan Shanghai untuk membangun basis magang guna melatih bakat industri secara bersama.

12 Desember 2022, adalah hari yang layak diingat bagi perusahaan kami. Pada hari ini, kami resmi menjalin kerja sama dengan Universitas Teknologi dan Ilmu Pengetahuan Shanghai dan menjadi basis magang mereka, secara bersama membuka babak baru dalam pelatihan talenta dan integrasi antara industri, akademisi, dan penelitian.

Sebagai tempat magang, perusahaan kami akan menyediakan berbagai peluang praktik bagi mahasiswa dari Universitas Teknik dan Ilmu Pengetahuan Shanghai. Mahasiswa akan memiliki kesempatan untuk berpartisipasi dalam proyek-proyek nyata perusahaan dan memperoleh pemahaman mendalam tentang teknologi terdepan di industri serta dinamika pasar melalui operasi praktis dan pengalaman pribadi. Pada saat yang sama, perusahaan juga akan mengatur personel teknis berpengalaman untuk bertindak sebagai instruktur guna memberikan bimbingan personal kepada mahasiswa dan membantu memastikan bahwa mereka dapat sepenuhnya berlatih dan berkembang dalam praktik.

Untuk perusahaan kami, kerja sama ini tidak hanya akan membantu meningkatkan pengaruh sosial dan citra merek perusahaan, tetapi juga memberikan lebih banyak bakat unggul untuk persiapan perusahaan. Melalui kerja sama dengan Universitas Teknologi Shanghai, kami akan dapat menarik lebih banyak mahasiswa dengan semangat inovasi dan kemampuan praktis untuk bergabung dengan tim kami, menyuntikkan vitalitas dan kekuatan baru ke dalam perkembangan perusahaan.

Kali ini menjadi basis magang Universitas Teknologi Shanghai menandai bahwa perusahaan kami telah mengambil langkah nyata dalam pelatihan talenta dan kerja sama antara industri, universitas, dan penelitian. Kami percaya bahwa di hari-hari mendatang, melalui upaya bersama dan eksplorasi tak kenal lelah dari kedua belah pihak, kami akan mampu mencetak lebih banyak talenta industri yang unggul dan membuat kontribusi yang lebih besar bagi kemakmuran dan perkembangan industri.